特許
J-GLOBAL ID：200903059773925739
半導体製造装置の処理システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
守山 辰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-263481
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082589
出願日： 1995年09月18日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【課題】 制御プログラムであるレシピの作成や修正が簡単に短時間で行え、さらに、1つのレシピに記載するイベントの数も少なくできる半導体製造装置の処理システムを提供する【解決手段】 半導体製造装置の制御処理に共通のイベント101〜103,201〜204をサブレシピ10a,10bとして別個に作成するとともに、各制御処理についてそれぞれメインレシピ9a,9bを作成し、このメインレシピ9a,9bにサブレシピ10a,10bを読み出すイベントA01,A04,B01,B04を設け、メインレシピ9a,9bに従い該メインレシピ9a,9bの各イベントおよびイベントA01,A04,B01,B04で読み出されたサブレシピ10a,10bの各イベント101〜103,201〜204の操作を実行して制御処理を行うようにした。
請求項（抜粋）：
一連のイベントが実行順に記述されたレシピを複数の制御処理に付いてそれぞれ作成し、該制御処理を対応するレシピに基づきイベントを実行して行う半導体製造装置において、複数の制御処理に共通のイベントをサブレシピとして作成するとともに、該サブレシピの読出イベントを有するメインレシピを前記各制御処理毎に作成し、該メインレシピおよび該メインレシピから呼び出したサブレシピを基に各制御処理のイベントを実行することを特徴とする半導体製造装置の処理システム。
引用特許：
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