触媒及び触媒担体処理のための流動床法及び反応器

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江藤聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-575614
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530182
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】本発明は、a)触媒又は触媒坦体の塊状材料が充填された反応器の下側部分にガスを導入及び分散し、b)反応器内に流動床を形成し、c)流動床で粒子を処理すると共に、分離機関により、微粒子を除去し、及び/又は粗粒子を残し、そしてd)反応器から排出する、ことにより触媒又は触媒担体を処理する方法に関する。このために、底部が下方に向かって次第に細くなっている反応器を使用する。

請求項（抜粋）：

a)触媒又は触媒坦体の塊状材料が充填された反応器の下側部分にガスを導入及び分散し、 b)反応器内に流動床を形成し、 c)流動床で触媒又は触媒担体粒子を処理し、そして d)反応器から排出する、ことにより触媒又は触媒担体を処理する方法であって、使用する反応器の底部(2)の先が下方に向かって次第に細くなっていることを特徴とする処理方法。

IPC (8件)：

B01J 8/24 , B01J 21/08 , B01J 23/26 , B01J 37/00 , B01J 37/08 , B07B 7/08 , C08F 4/02 , C08F 4/60

FI (8件)：

B01J 8/24 , B01J 21/08 M , B01J 23/26 M , B01J 37/00 A , B01J 37/08 , B07B 7/08 , C08F 4/02 , C08F 4/60

Fターム (46件)：

4D021FA25 , 4D021GA05 , 4D021HA10 , 4G069AA01 , 4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BC58A , 4G069BC58B , 4G069EA01X , 4G069EA01Y , 4G069EB18Y , 4G069EC03Y , 4G069EC08Y , 4G069EC21Y , 4G069FA01 , 4G069FB30 , 4G069FB40 , 4G069FB79 , 4G069FB80 , 4G070AA01 , 4G070AB06 , 4G070BB32 , 4G070CA10 , 4G070CA13 , 4G070CA30 , 4G070CB26 , 4G070DA02 , 4G070DA15 , 4G070DA16 , 4J015DA07 , 4J015EA10 , 4J028AA01A , 4J028AB01A , 4J028AC02A , 4J028AC42A , 4J028BA00A , 4J028BA00B , 4J028BB00A , 4J028BB00B , 4J028CA24A , 4J028EB02 , 4J028EB04

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭59-042039
特開昭55-118422
特開昭58-216735

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