特許

J-GLOBAL ID：200903059850997241

電子材料洗浄方法及び電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021200
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219927
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄において、有機物汚染、金属汚染及び微粒子汚染の3種の汚染を、1工程で同時に効率よく除去することができる電子材料洗浄方法及び電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】溶存酸素ガス20mg/リットル以上及び溶存オゾン0.1mg/リットル以上を含有する超純水からなる電子材料用洗浄水に超音波を伝達しつつ、表面に付着した有機物汚染、金属汚染又は微粒子汚染を除去することを特徴とする電子材料洗浄方法、並びに、溶存酸素ガス20mg/リットル以上及び溶存オゾン0.1mg/リットル以上を含有する超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

溶存酸素ガス20mg/リットル以上及び溶存オゾン0.1mg/リットル以上を含有する超純水からなる電子材料用洗浄水に超音波を伝達しつつ、表面に付着した有機物汚染、金属汚染又は微粒子汚染を除去することを特徴とする電子材料洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  C11D 7/02

FI (4件)：

H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 A ,  B08B 3/12 A ,  C11D 7/02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000905   出願人：大見忠弘
• 特開昭63-010529
  

審査官引用 (2件)

• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-000905   出願人：大見忠弘
• 特開昭63-010529