特許

J-GLOBAL ID：200903059895915637

光学素子形成用平板及びそれを用いた光学素子母型の作製方法

発明者： 三村 育夫 ,  濱田 豊
出願人/特許権者： 日本カーバイド工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-299058
公開番号（公開出願番号）：特開2000-108136
出願日： 1998年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 極めて高精度に、且つ簡単に、光学素子母型を作製することができ、特に微細で複雑な形状の光学素子の作製に極めて有効である光学素子形成用平板の作製方法、及び該平板を使用した光学素子母型の作製方法を提供する。【解決手段】 互いに平行な二面をもつ平板の端部に、所望のデザインの光学素子側面の投影形状に対応する形状が形成された複数の微細構造平板を、LIGAプロセスを含む工程によって形成することを特徴とする光学素子形成用平板の作製方法、及び複数の該平板を、該光学素子形状を構成するように多数重ね合わせて光学素子母型を作製することを特徴とする光学素子母型の作製方法。

請求項（抜粋）：

互いに平行な二面をもつ平板の端部に、所望のデザインの光学素子側面の投影形状に対応する形状が形成された複数の微細構造平板を、LIGAプロセスを含む工程によって形成することを特徴とする光学素子形成用平板の作製方法。

IPC (5件)：

B29C 33/38 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/06 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/124

FI (5件)：

B29C 33/38 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/06 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/124

Fターム (14件)：

2H042EA03 ,  2H042EA05 ,  2H042EA14 ,  2H042EA16 ,  4F202AA21 ,  4F202AH74 ,  4F202AH75 ,  4F202AH76 ,  4F202AJ02 ,  4F202CA09 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD12 ,  4F202CD24

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レジストパターンの形成方法および成形品の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-244898   出願人：日本合成ゴム株式会社
• マイクロコーナーキューブ・マイクロコーナーキューブアレイおよびこれらの製造方法およびマイクロコーナーキューブアレイを用いる表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001130   出願人：リコー光学株式会社, 株式会社リコー
• 内部全反射型再帰反射シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-032842   出願人：日本カーバイド工業株式会社