加熱可能な旋回テーブル

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190884
公開番号（公開出願番号）：特開平8-060358
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【構成】真空内で積層されるべき、殊に大平面状の基板4を、装入乃至取出し位置Aと積層位置Bとの間で交互に位置決めするための旋回装置1であって、基板受容装置6を備えている形式のものにおいて、前記装置1が加熱装置8を有し、該加熱装置8を用いて基板4が加熱可能であるように構成されている。【効果】このため基板受容装置の鉛直な位置において、積層されるべき基板面が積層源、つまりスパッタカソードに対しほぼ平行に配置されており、これによって全基板面に亘って均一な層が装着可能である。

請求項（抜粋）：

真空内で積層されるべき、殊に大平面状の基板(4)を、装入乃至取出し位置(A)と積層位置(B)との間で交互に位置決めするための旋回装置(1)であって、基板受容装置(6)を備えている形式のものにおいて、前記装置(1)が加熱装置(8)を有し、該加熱装置(8)を用いて基板(4)が加熱可能であることを特徴とする、加熱可能な旋回テーブル。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-154966
特開平4-154966
特開昭63-303068

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