特許

J-GLOBAL ID：200903059983736882

耐紫外線物品及びその製造方法

発明者： 藤波 泰志 ,  江部 明憲 ,  今井 修 ,  緒方 潔
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-354051
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246690
出願日： 1998年12月14日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 少なくとも一部が高分子材料からなる物品であって、該高分子材料本来の特性が維持されているとともに、該高分子材料の紫外線による劣化が十分抑制されており、さらに安全性が高い耐紫外線物品及びその製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一部が高分子材料からなり、該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に、それ自体で紫外線遮断性を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成されている耐紫外線物品。それ自体で紫外線遮断性を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成された耐紫外線物品の製造方法であって、該紫外線遮断性膜を形成すべき前記高分子材料からなる部分の表面に、紫外線遮断性膜を気相成長法により形成する工程を含み、該紫外線遮断性膜の形成に先立ち、或いは該膜の形成の初期にイオンを照射エネルギ0.05keV以上2keV以下で、1×1013ions/cm2 以上5×1017ions/cm2 以下照射する耐紫外線物品の製造方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも一部が高分子材料からなり、該高分子材料からなる部分の表面の少なくとも一部に、紫外線遮断性能を有する物質からなる紫外線遮断性膜が形成されていることを特徴とする耐紫外線物品。

IPC (5件)：

C08J 7/00 302 ,  B32B 7/02 103 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/08 ,  C23C 16/02

FI (6件)：

C08J 7/00 302 ,  B32B 7/02 103 ,  C23C 14/02 A ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/08 G ,  C23C 16/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラスチック成形品への硬質薄膜形成方法およびその製品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-143477   出願人：財団法人プラスチック技術振興センター
• 基材の表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-037001   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 基材の表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-337947   出願人：日本合成ゴム株式会社