特許
J-GLOBAL ID：200903060064844413

洗浄剤組成物

発明者：
後藤 千俊

後藤 千俊 について


出願人/特許権者：
第一工業製薬株式会社

第一工業製薬株式会社 について


代理人 (1件)： 赤岡 迪夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-310872
公開番号（公開出願番号）：特開2003-119500
出願日： 2001年10月09日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：
【要約】【課題】 カルボキシメチル化ポリオキシエチレンアルキルエーテルを含む洗浄剤組成物の経時安定性特に低温(°C以下)における経時安定性を改善する。【解決手段】 (a)式1:RO(CH2 CH2 O)n CH2 COOM(式中、Rは炭素数8〜18のアルキル基、nは平均値が1〜5である繰り返し数、Mは水素原子、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオンまたは低級アルカノールアミンカチオンを意味する。)で表されるカルボキシメチル化ポリオキシエチレンアルキルエーテル、(b)ヒドロキシカルボン酸またはその塩、および(c)アルカリ金属またはアルカリ土類金属の硫酸塩または塩化物を含み、(a):(b)+(c)の重量比が99:1〜85:15であり、(b):(c)の重量比が99:1〜10:90であることを特徴とする洗浄剤組成物。
請求項（抜粋）：
(a)式1:RO(CH2 CH2 O)n CH2 COOM(式中、Rは炭素数8〜18のアルキル基、nは平均値が1〜5である繰り返し数、Mは水素原子、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオンまたは低級アルカノールアミンカチオンを意味する。)で表されるカルボキシメチル化ポリオキシエチレンアルキルエーテル、(b)ヒドロキシカルボン酸またはその塩、および(c)アルカリ金属またはアルカリ土類金属の硫酸塩または塩化物を含み、(a):(b)+(c)の重量比が99:1〜85:15であり、(b):(c)の重量比が99:1〜10:90であることを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (6件)：
C11D 10/02 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/06 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/386
FI (6件)：
C11D 10/02 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/06 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/386
Fターム (25件)：
4C083AB331 ,  4C083AB332 ,  4C083AB341 ,  4C083AB351 ,  4C083AB352 ,  4C083AB361 ,  4C083AB362 ,  4C083AC231 ,  4C083AC232 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC542 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083EE01 ,  4C083EE07 ,  4H003AB05 ,  4H003DA01 ,  4H003DA02 ,  4H003DA17 ,  4H003EA12 ,  4H003EA19 ,  4H003EB08 ,  4H003ED02 ,  4H003FA16
引用特許：
審査官引用 (7件)
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