特許
J-GLOBAL ID：200903060104860034
特には極端紫外線(EUV)リソグラフィに用いる、照明システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
細田 益稔
, 石井 総
, 青木 純雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-502061
公開番号（公開出願番号）：特表2005-524236
出願日： 2003年04月08日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
193nm以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影レンズを有する、特には極端紫外線(EUV)リソグラフィに使用するための照明システムが、光源(1)と、物体平面(12)と、出口瞳(15)と、光チャンネルを生成するための第1スクリーンエレメント(6)を有する第1光学エレメント(5)と、第2スクリーンエレメント(8)を有する第2光学エレメント(7)とを備えている。第2光学エレメント(7)のスクリーンエレメント(8)は、第1光学エレメント(5)の第1スクリーンエレメント(6)のうちの1つにより形成される各光チャンネルに割り当てられる。第1光学エレメント(5)及び前記第2光学エレメント(7)のスクリーンエレメント(6)は、これらスクリーンエレメントが各光チャンネルに対して光源(1)から物体平面(12)までの連続したビーム進路を生成するように構成し又は配置することができる。第1光学エレメント(5)の第1スクリーンエレメント(6)の角度は、傾きを変更するために調整することができる。第2光学エレメント(7)における第2スクリーンエレメント(8)の位置及び/又は角度は、第1及び第2スクリーンエレメント(8)を変位及び/又は傾動させることにより、第2光学エレメント(7)の第2スクリーンエレメント(8)に対する第1光学エレメント(5)の第1スクリーンエレメント(6)の他の割り当てを実現するように個別に且つ互いに独立に調整することができる。
請求項（抜粋）：
特にはEUVリソグラフィのための照明システムであって、193nm以下の波長に対して半導体素子を生成するための投影対物系と、光源と、物体平面と、出力瞳と、光チャンネルを生成するための第1格子エレメントを備える第1光学エレメントと、第2格子エレメントを備える第2光学エレメントとを有し、前記第1光学エレメントにおける前記第1格子エレメントの1つにより形成される各光チャンネルには前記第2光学エレメントの格子エレメントが割り当てられ、前記第1光学エレメント及び前記第2光学エレメントの格子エレメントは各光チャンネルに関する結果が前記光源から前記物体平面までの連続したビーム進路となるように構成し又は配置することが可能であるような照明システムにおいて、
前記第1光学エレメント(5)の第1格子エレメント(6)の角度は、該第1格子エレメント(6)を傾動させることにより、前記第2光学エレメント(7)の第2格子エレメント(8)に対する前記第1光学エレメント(5)の第1格子エレメント(6)の異なる割り当てを実行するために傾きを変更するように調整することができることを特徴とする照明システム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 531A
, G02B17/00 Z
, H01L21/30 531S
2H087KA21
, 2H087TA01
, 2H087TA02
, 5F046GA03
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GC03
