特許
J-GLOBAL ID：200903020738993493
照明システム
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126487
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003858
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 できるだけ簡単に構成された照明システム及びこのような照明システムを設計するための方法を提供し、この方法によってとりわけEUV領域における波長≦193nmの露光システムに対する要求を満たすことができ、さらに所定の面における任意の照明Aを有する光源として任意の光源が使用できるようにすることである。【解決手段】 上記課題は、上位概念記載の照明システムにおいて、光学エレメントによるラスタエレメントの像がレチクル面において大部分で一致し、さらにアパーチャ及び充填度によって決定される射出瞳は縮小光学系の入射瞳であり、このアパーチャ及び充填度によって決定される射出瞳が十分に均一に照明されるように、1つ乃至は複数のミラー又はレンズのラスタエレメントは形成され配置されることによって解決される。
請求項（抜粋）：
波長≦193nmに対する照明システムであって、少なくとも1つの光源(1)を有し、該光源(1)は所定の面において照明Aを有し、2次光源を発生するための少なくとも1つの装置を有し、ラスタエレメントに構成される少なくとも1つのミラー又はレンズを含む少なくとも1つのミラー装置又はレンズ装置を有し、1つ又は複数の光学エレメントを有し、該1つ又は複数の光学エレメントは、前記ラスタエレメントに構成される少なくとも1つのミラー又はレンズを含むミラー装置又はレンズ装置とレチクル面(14、316、406)との間に配置され、前記光学エレメントは前記2次光源を照明システムの射出瞳に結像する、波長≦193nmに対する照明システムにおいて、前記光学エレメントによる前記ラスタエレメントの像が前記レチクル面(14、316、406)において大部分で一致し、さらにアパーチャ及び充填度によって決定される射出瞳が照明されるように、1つ乃至は複数のミラー又はレンズの前記ラスタエレメントは形成され配置されることを特徴とする、波長≦193nmに対する照明システム。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, F21V 5/00
, F21V 7/00
, F21V 13/04
, G03F 7/20 502
H01L 21/30 515 D
, F21V 5/00
, F21V 7/02
, F21V 13/04 Z
, G03F 7/20 502
