特許
J-GLOBAL ID：200903060105129147

基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置

発明者：
林 豊秀

林 豊秀 について

, 
西村 譲一

西村 譲一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-306176
公開番号（公開出願番号）：特開平10-137665
出願日： 1996年11月18日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】 各薬液に応じた雰囲気を形成することによって、薬液の固化を防止しつつもその濃度や物性的な変化が生じることを防止できる。【解決手段】 供給位置と待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する3本の薬液供給ノズル10(11,12)を備え、各々の薬液供給ノズル10(11,12)が待機位置に移動したときに、待機ポット20の挿入口のそれぞれに各先端部10b(11b,12b)を収納して待機させる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法において、3本の薬液供給ノズル10(11,12)が待機位置で待機しているときに、各薬液供給ノズル10(11,12)が吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を待機ポット20の各挿入口内部に形成した。
請求項（抜粋）：
基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設されている待機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法において、前記複数個の薬液供給ノズルが前記待機位置で待機しているときに、前記各薬液供給ノズルが吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を前記待機ポットの各挿入口内部に形成したことを特徴とする基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法。
IPC (5件)：
B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 564 Z
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • レジスト塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-289390   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 処理液滴下用ノズルの洗浄方法及び洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-173120   出願人：ホーヤ株式会社
  • 特開昭64-008621
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審査官引用 (3件)

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