パターンの保持方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-196871
公開番号（公開出願番号）：特開平6-043637
出願日： 1992年07月23日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】耐熱性、耐溶剤性及び基体との密着性等の諸性能に優れたポジ型パターンの、工業的有利な保持方法を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含む樹脂組成物、キノンジアジド化合物及び光酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物を基体に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像除去してポジ型レジストパターンを形成させ、次いで、非露光部である上記レジストパターンを硬化させること、あるいは全面露光して硬化させること、又は全面露光して酸により硬化させることからなるパターンの保持方法。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含む樹脂組成物及びキノンジアジド化合物を含有するポジ型レジスト組成物を基体に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像除去してポジ型レジストパターンを形成させ、次いで、形成されたポジ型レジストパターンを硬化させることからなるパターンの保持方法。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , G03F 7/40 501

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開昭60-263143
特開昭63-097948
特開昭57-111529

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