特許

J-GLOBAL ID：200903060151016802

熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置

発明者： 内藤 武志 ,  荻原 宏一 ,  若月 章宏 ,  中広 伊孝 ,  井上 英樹 ,  中嶋 良男
出願人/特許権者： 同和鉱業株式会社
代理人 (1件)： 澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-048597
公開番号（公開出願番号）：特開平10-226870
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】 従来の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、スーティングを生ずる欠点があった。【解決手段】 本発明の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い炉内の残留CH4 の値が下降から上昇に転じたか、または、炉内の酸素分圧が所定値に達したとき上記炭化水素系ガスの供給を停止せしめる。

請求項（抜粋）：

炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い、炉内の残留CH4 の値が下降から上昇に転じた時、上記炭化水素系ガスの供給を停止することによってスーティングを防止することを特徴とする熱処理炉の雰囲気制御方法。

IPC (2件)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/76

FI (2件)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/76 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 真空浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-330688   出願人：日本精工株式会社
• 特開昭63-199859
  
• 特開昭60-114565