荷電粒子ビーム露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009987
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196296
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】ステージに固定したキャリブレーションチップの表面の汚れを十分に清掃でき、しかもスループットの低下が小さい荷電粒子ビーム露光装置の実現。【解決手段】荷電粒子ビーム源9と、荷電粒子ビームEBを収束するための収束手段と、荷電粒子ビームを偏向するための偏向手段67とを有する電子光学コラム41と、試料50を保持すると共に荷電粒子ビームの収束状態及び偏向状態を検出するために使用するキャリブレーションチップ51を備える移動可能なステージ17と、反射荷電粒子を検出する反射荷電粒子検出器28とを備える荷電粒子ビーム露光装置であって、キャリブレーションチップを移動して近接させることが可能な位置に設けられた電極71と、減圧状態の前記電極付近に酸素ガスを導入する酸素ガス供給機構75,76 と、電極に電圧を印加する電圧源72とを備え、電極付近で放電を発生させる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム源と、該荷電粒子ビーム源の出力する荷電粒子ビームを収束するための収束手段と、前記荷電粒子ビームを偏向するための偏向手段とを有する電子光学コラムと、前記荷電粒子ビームが照射される試料を保持すると共に、前記収束手段及び前記偏向手段による前記荷電粒子ビームの収束状態及び偏向状態を検出するために使用するキャリブレーションチップを備える移動可能なステージと、前記試料上及び前記キャリブレーションチップを前記荷電粒子ビームで走査した時の反射荷電粒子を検出する反射荷電粒子検出器とを備える荷電粒子ビーム露光装置であって、前記キャリブレーションチップを移動して近接させることが可能な位置に設けられた電極と、減圧状態の前記電極付近に酸素ガスを導入する酸素ガス供給機構と、前記電極に電圧を印加する電圧源とを備え、前記電極付近で放電を発生させることを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G21K 5/04 , H01J 37/04 , H01J 37/305

FI (6件)：

G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G21K 5/04 M , H01J 37/04 A , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 N

Fターム (14件)：

2H097AA03 , 2H097CA16 , 2H097KA40 , 2H097LA10 , 5C030AA02 , 5C030AB03 , 5C034BB06 , 5F056BB01 , 5F056BD03 , 5F056BD07 , 5F056CB16 , 5F056CB22 , 5F056CB33 , 5F056CC05

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭55-041724
特開昭55-041724
特開昭63-308856

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