レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327610
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148896
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：

【要約】【構成】水溶性膜形成成分とフッ素系界面活性剤とを含有して成るレジスト用塗布液、及び該塗布液から成る干渉防止膜を表面に有するレジスト材料。【効果】リソグラフィー技術における干渉作用が低減されるため、結果としてパターン寸法精度の優れたレジストパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：