特許
J-GLOBAL ID：200903095430271888
レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-126265
公開番号（公開出願番号）：特開平6-051523
出願日： 1993年05月27日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【構成】 水溶性フッ素化合物の水溶液からなるレジスト表面反射防止膜形成性組成物、並びに、基板上にフォトレジスト組成物を塗布する工程、上記反射防止膜形成性組成物を塗布する工程、塗布膜に所定パターンを露光する工程、及びフォトレジストを現像する工程からなるパターン形成方法。【効果】 本発明の組成物は、フォトレジスト上に水溶液として塗布できるため、容易に反射防止膜が形成でき、しかも水洗又はアルカリ現像により容易に除去できる。従って、本発明のパターン形成方法により簡便で、しかも寸法精度の高いパターン形成をすることができる。
請求項（抜粋）：
水溶性フッ素化合物の水溶液からなるレジスト表面反射防止膜形成性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/11 503
, G03F 7/16
, H01L 21/027
H01L 21/30 361 T
, H01L 21/30 361 L
