特許
J-GLOBAL ID：200903060214739249
フォトリソプロセス装置および欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小笠原 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-020361
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217062
出願日： 2004年01月28日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 フォトリソプロセス工程において、半導体ウエハに異常が発生した場合に、異常の原因を特定することができるフォトリソプロセス装置11を提供する。【解決手段】 複数の工程によって基板に対するフォトリソグラフィー処理を行うフォトリソプロセス装置11において、検査部17は、提供された基板の欠陥の有無を検査し、搬送部15は、指示された工程で処理された基板を検査部17に搬送して提供する。制御部19は、通常動作時には、複数の工程の内、所定の工程で処理された基板のみが検査部17に提供されて検査され、所定の工程で処理された基板に欠陥があると検査部17が判断した場合には、所定の工程より前に存在する工程において処理された基板が検査部17に提供されるように搬送部15を制御する。異常特定部49は、異常発見モード時における判定部の判定結果に基づいて、欠陥が発生した工程を特定する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の工程によって基板に対するフォトリソグラフィー処理を行うフォトリソプロセス装置であって、
提供された基板に対して欠陥があるか否かを検査する基板検査部と、
前記複数の工程の内、指示された工程において処理された基板を前記基板検査部に搬送して提供することにより、当該基板を基板検査部によって検査させる基板提供部と、
通常動作モード時においては、前記複数の工程の内、所定の工程で処理された基板のみが前記基板検査部に提供されて検査され、当該所定の工程で処理された基板に欠陥があると基板検査部が判断した異常発見モード時には、当該所定の工程より前に存在する工程において処理された基板が前記基板検査部に提供されて検査されるように前記基板提供部を制御する制御部と、
前記異常発見モード時における前記基板検査部の検査結果に基づいて、いずれの工程で前記欠陥が発生したのかを特定する異常特定部とを備える、フォトリソプロセス装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 562
, H01L21/66 J
, H01L21/66 Z
, H01L21/30 502V
4M106AA01
, 4M106BA20
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ27
, 4M106DJ38
, 5F046AA18
, 5F046JA22
, 5F046LA18
