特許
J-GLOBAL ID:200903060252686035

表面処理組成物及び基体表面処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-281290
公開番号(公開出願番号):特開平9-157692
出願日: 1996年10月03日
公開日(公表日): 1997年06月17日
要約:
【要約】【課題】 表面処理組成物から基体表面への金属不純物の汚染を防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる表面処理組成物及びそれを用いた基体の表面処理方法を提供する。【解決手段】 液媒体中に金属付着防止剤として錯化剤を含有する表面処理組成物において、該錯化剤は、(A群)分子構造中に環状骨格を有し、且つ該環を構成する炭素原子に結合したOH基及び/又はO-基を1つ以上有する錯化剤(例、タイロン)及び(B群)分子構造中にカルボキシル基を1つ以上有するが、ドナー原子である窒素原子、ハロゲン原子、硫黄原子及び炭素原子を有さず、且つカルボニル基及び水酸基を有しないカルボン酸系錯化剤(例、酢酸、マロン酸)の各群から各々少なくとも1種選ばれる錯化剤からなる表面処理組成物及びこの表面処理組成物を用いた基体の表面処理方法。
請求項(抜粋):
液媒体中に金属付着防止剤として錯化剤を含有する表面処理組成物において、該錯化剤は、(A群)分子構造中に環状骨格を有し、且つ該環を構成する炭素原子に結合したOH基及び/又はO-基を1つ以上有する錯化剤、及び(B群)分子構造中にカルボキシル基を1つ以上有するが、ドナー原子である窒素原子、ハロゲン原子、硫黄原子及び炭素原子を有さず、且つカルボニル基及び水酸基を有しないカルボン酸系錯化剤の各群から各々少なくとも1種選ばれる錯化剤からなる事を特徴とする表面処理組成物。
IPC (5件):
C11D 7/26 ,  C09K 3/00 108 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/304 341
FI (5件):
C11D 7/26 ,  C09K 3/00 108 B ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/304 341 L

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