特許

J-GLOBAL ID：200903060268285596

露光方法及び露光装置

発明者： 杉田 充朗 ,  川島 美代子 ,  斉藤 謙治 ,  鈴木 章義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221097
公開番号（公開出願番号）：特開2000-040656
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 市松模様が得られる2光束干渉露光と投影露光を融合し、所定の形状のパターン像が容易に得られるマスク及びそれを用いた露光方法を得ること。【解決手段】 通常露光との多重露光により所望のパターンを感光基板上にパターンを転写する為のマスクであって、該マスクは基板上に透過率又は/及び位相が市松模様に異なるように構成したこと。

請求項（抜粋）：

多重露光により所望のパターンを感光基板上に転写する為のマスクであって、該マスクは基板上に透過率又は/及び位相が市松模様に異なるように構成したことを特徴とするマスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A

Fターム (6件)：

5F046AA01 ,  5F046AA05 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA08 ,  5F046CB17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• フォトレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016763   出願人：株式会社リコー