特許
J-GLOBAL ID：200903060271814605
回折格子作製用位相マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
韮澤 弘
, 阿部 龍吉
, 蛭川 昌信
, 内田 亘彦
, 菅井 英雄
, 青木 健二
, 米澤 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-378590
公開番号（公開出願番号）：特開2005-141075
出願日： 2003年11月07日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 回折されないで透過する0次光成分を極力小さくして、転写した光導波路回折格子の反射スペクトル中にノイズが発生しないようにする。【解決手段】 透明基板の1面に格子状の断面略矩形の凹溝26と凸条27の繰り返しパタ-ンが設けられ、その繰り返しパタ-ンによる紫外線露光光23の回折光相互の干渉縞により光導波路22中に回折格子を形成する位相マスク21において、凹溝26と凸条27の繰り返しパタ-ンの断面形状寸法が、d:凹溝の溝深さ、w:凸条の幅、Λ:繰り返し周期、λ:露光波長、n2 :透明基板の屈折率、n1 :雰囲気の屈折率、d0 =λ/{2(n2 -n1 )}、f=w/Λとするとき、d/d0 ≧1.03、f≦0.48の関係を満足する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板の1面に格子状の断面略矩形の凹溝と凸条の繰り返しパタ-ンが設けられ、その繰り返しパタ-ンによる紫外線露光光の回折光相互の干渉縞により光導波路中に回折格子を形成する位相マスクにおいて、凹溝と凸条の繰り返しパタ-ンの断面形状寸法が、d:凹溝の溝深さ、w:凸条の幅、Λ:繰り返し周期、λ:露光波長、n2 :透明基板の屈折率、n1 :雰囲気の屈折率、d0 =λ/{2(n2 -n1 )}、f=w/Λとするとき、
d/d0 ≧1.03、f≦0.48
の関係を満足することを特徴とする回折格子作製用位相マスク。
IPC (3件)：
G02B5/18
, G02B6/10
, G03F1/08
G02B5/18
, G02B6/10 C
, G03F1/08 A
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA44
, 2H049AA51
, 2H049AA59
, 2H050AC82
, 2H050AC84
, 2H095BA12
, 2H095BB03
, 2H095BC28
