特許
J-GLOBAL ID：200903040553534680

連続的にチャープした位相マスクの製造方法

発明者：
グレン エリック コーンケ

グレン エリック コーンケ について

, 
トーマス エー.ストラッサー

トーマス エー.ストラッサー について


出願人/特許権者：
ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド

ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-283276
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142413
出願日： 1997年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 連続してチャープした光ファイバブラググレーティングを製造する方法および装置を提供する。【解決手段】 連続的にチャープした光ファイバブラググレーティングは、連続的にチャープした位相マスクをを用いて光ファイバにブラググレーティングを書き込む。このチャープした位相マスクは、フォトレジストをコーティングしたマスク基板23を2本の干渉ビーム24,25に露光し、一方はコリメートしたビームであり、他方は滑らかに湾曲したミラー26から反射したビームである。この光ファイバグレーティングは、広くなったバンド幅を有し、高度な通信アプリケーションにおける分散補償に有効な均一の分散遅延特性を有する。
請求項（抜粋）：
(A)紫外光に対し透明な材料で形成され、フォトレジスト層でコーティングされた表面を有する基板を用意するステップと、(B)前記フォトレジストをコリメートビームと滑らかに湾曲したミラーから反射された前記コリメートビームの一部との干渉により形成された光パターンに露光するステップと、(C)前記ステップ(B)で形成されたフォトレジストを現像するステップと、(D)連続的にチャープした表面凹凸(relief)グレーティングを有する位相マスクを形成するために、前記ステップ(B)で形成された基板をエッチングするステップとからなることを特徴とする連続的にチャープした位相マスクの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10
FI (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 C
引用特許：
審査官引用 (10件)
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