特許
J-GLOBAL ID:200903060284046828

遺伝的アルゴリズムを用いた多層膜フィルタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-272573
公開番号(公開出願番号):特開2000-347025
出願日: 1999年09月27日
公開日(公表日): 2000年12月15日
要約:
【要約】【課題】 多層膜光フィルタの各層の屈折率Niと膜厚Diの最適な組み合わせを抽出する。【解決手段】 多層膜光フィルタのi層の屈折率と膜厚とを要素とする行列Xiをさらに一つの要素として行列P=(X1,X2,X3...、XS)で表わされる初期パターンを生成する工程S21と、初期パターンの要素Xiの屈折率及び膜厚を増減させて変異パターンを所定数生成する増殖・変異工程S22を行なう。変異パターンと初期パターンとからなる群から一対のパターンを選んでパターン対中の行列を入れ替える交叉工程S23を行なう。初期パターンと変異パターン群と交叉パターン群とからそれらパターンの光学特性が所望の光学特性に近いパターンを順番に選択する淘汰工程S25を行なう。ついで選択した所定数のパターンに対して上記一連の工程からなるアルゴリズム工程を、最終の淘汰パターンの光学特性の値が所望の光学特性の値に対する所望の差の値の範囲内になるまで繰り返し行ない、最適な多層膜光フィルタを製造する。
請求項(抜粋):
S(Sは1以上の整数)層の多層膜光フィルタのi(iは1以上の整数)層の屈折率と膜厚とを要素とする行列Xiをさらに一つの要素として次式1: P=(X1,X2,X3...、XS) ...(1)で表わされる行列からなる初期パターンを生成する工程と、前記初期パターンに基づいて、該初期パターン中の任意の要素Xiにおいて、初期パターン中の屈折率を所定値増減させるか又は膜厚を所定値増減させて互いに異なる変異パターンを所定数生成する増殖・変異工程と、該増殖・変異工程にて生成した変異パターン群と前記初期パターンのなかから一対のパターンを少なくとも一組選び、選んだ対のパターン同士においてパターン中の前記行列Xi及び/又は該行列Xiを前記所定値変異させてなる行列を入れ替えて交叉パターンを所定数生成する交叉工程と、前記増殖・変異工程にて生成した変異パターン群と前記交叉パターン群と前記初期パターンとからなるパターン群から、それらパターンの光学特性が所望の光学特性に近いパターンを順番に所望数選択する淘汰工程と、ついで前記初期パターンに代えて前記淘汰工程にて選択した所定数のパターンに基づいて、前記増殖・変異工程、前記交叉工程、前記淘汰工程とからなる一連のアルゴリズム工程を、該アルゴリズム工程にて得た直前の淘汰パターンの光学特性の値が前記所望の光学特性の値に対する所望の差の値の範囲内になるまで繰り返し行なう工程とからなることを特徴とする遺伝的アルゴリズムを用いた多層膜フィルタの製造方法。
IPC (3件):
G02B 5/28 ,  G02B 1/10 ,  G06F 15/18 550
FI (3件):
G02B 5/28 ,  G06F 15/18 550 C ,  G02B 1/10 Z
Fターム (9件):
2H048GA12 ,  2H048GA34 ,  2H048GA46 ,  2H048GA51 ,  2H048GA57 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62 ,  2K009DD01 ,  2K009EE00
引用特許:
出願人引用 (4件)
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