特許
J-GLOBAL ID：200903060359163167
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-425698
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181895
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】 遮光膜を設けていないハーフトーンブランク構造を用いることにより、従来に比べて格段にハーフトーン膜のパターンの寸法精度を向上させるブランクを提供することができるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法を提供する。【解決手段】透明基板1上にハーフトーン膜2を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクで、ハーフトーン膜2の上に薄膜導電層3を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上にハーフトーン膜を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、
前記ハーフトーン膜の上に薄膜導電層を形成することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB26
, 2H095BC16
