特許
J-GLOBAL ID：200903002328193149
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242021
公開番号（公開出願番号）：特開平8-082916
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：
【要約】【目的】 ハーフトーン型位相シフトマスクのメインパターンの周囲に、露光光を確実に遮光できる遮光帯を設ける。【構成】 透明基板1の上にハーフトーン材料膜2’を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、ハーフトーン材料膜2’に対して選択的にエッチングが可能な、すなわち、ハーフトーン材料膜2’をエッチングすることなく独立してエッチングが可能である金属膜8をメインパターン3の外周部に枠状に設ける。金属膜8は遮光性を有する材料、例えば、Cr、CrO、CrN、CrON又はそれらを積層した複合膜によって形成され、例えばステッパー等を用いた露光時にメインパターン3の外周部分に対応するウェハが感光することを確実に防止できる。
請求項（抜粋）：
透明基板の上にハーフトーン材料膜を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、ハーフトーン材料膜に対して選択的にエッチングが可能な遮光性を有する金属膜をメインパターンの外周部に枠状に設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
