ポジ型ホトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-191431
公開番号（公開出願番号）：特開平9-319083
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】感度、焦点深度幅特性、耐熱性、プロファイル形状が優れたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、前記感光性成分がビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-3,4-ジヒドロキシフェニルメタンおよびビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニルメタンから選ばれる少なくとも1種のポリヒドロキシ化合物とキノンジアジドスルホン酸とのエステル化物であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、前記感光性成分がビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-4-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-3-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-3,4-ジヒドロキシフェニルメタンおよびビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニルメタンから選ばれる少なくとも1種のポリヒドロキシ化合物とキノンジアジドスルホン酸とのエステル化物であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (7件)

ポジ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-264097 出願人：東京応化工業株式会社
特開平4-301847
特開平4-029242

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