特許
J-GLOBAL ID:200903060388995899
洗浄装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 千春 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-318451
公開番号(公開出願番号):特開2003-117511
出願日: 2001年10月16日
公開日(公表日): 2003年04月22日
要約:
【要約】【課題】 安価な構造で振動を与えて洗浄効果の向上を図る。【解決手段】 洗浄槽1内で被洗浄物Wに超臨界または亜臨界状態の洗浄用流体を接触させることにより、被洗浄物Wに付着した汚染物を抽出除去する洗浄装置において、洗浄槽1内に、被洗浄物Wを収容する洗浄容器15を設けると共に、洗浄槽1に、前記流体の一部を高圧にして洗浄槽内にパルス的に噴射させる流体噴射機構50を付設した。
請求項(抜粋):
密閉された洗浄槽内で被洗浄物に超臨界または亜臨界状態の洗浄用流体を接触させることにより被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、前記洗浄槽に、前記洗浄用流体の一部を高圧にして洗浄槽内に連続または間欠的に噴射させる流体噴射機構を付設したことを特徴とする洗浄装置。
IPC (5件):
B08B 5/02
, B08B 7/00
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304 645
FI (5件):
B08B 5/02 Z
, B08B 7/00
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643 Z
, H01L 21/304 645 Z
Fターム (11件):
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 3B116AA48
, 3B116BB02
, 3B116BB21
, 3B116BB82
, 3B116BB90
, 3B116BC05
, 3B116CD41
引用特許: