特許
J-GLOBAL ID：200903087727464968

超臨界又は亜臨界流体を用いた洗浄方法及びその装置

発明者：
▲高▼岸 秀夫

▲高▼岸 秀夫 について


出願人/特許権者：
株式会社アイテック

株式会社アイテック について


代理人 (1件)： 北谷 寿一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119605
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308862
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 排気時に被洗浄物を過熱させることなく素早く加熱して洗浄サイクルの時間を短縮する。【解決手段】 耐圧洗浄容器(2)に加熱したガスを供給できるガス供給路(14)を接続する。洗浄工程を終了した後、耐圧洗浄容器(2)内の残存する高圧ガスを排気する際に、ガス供給路(14)から加熱したガスを耐圧洗浄容器(2)内へ供給して被洗浄物(9)を加熱する。その後、洗浄容器蓋(11)を開放し被洗浄物(9)を取り出す。
請求項（抜粋）：
洗浄工程を終了した後、耐圧洗浄容器(2)内の残存する高圧ガスを排気する際に、加熱したガスをこの耐圧洗浄容器(2)内へ供給して被洗浄物(9)を加熱し、その後、洗浄容器蓋(11)を開放することを特徴とする、超臨界又は亜臨界流体を用いた洗浄方法。
IPC (2件)：
B08B 3/08 ,  B08B 7/00
FI (2件)：
B08B 3/08 Z ,  B08B 7/00
Fターム (12件)：
3B116AA46 ,  3B116AB03 ,  3B116BB82 ,  3B116CD22 ,  3B201AA46 ,  3B201AB03 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201CB01 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (3件)

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