特許

J-GLOBAL ID：200903060459341437

逐次移動式投影型露光装置によるパターニング方法

発明者： 鈴木 茂徳 ,  鈴木 敏晴 ,  立川 一彦
出願人/特許権者： 富士電気化学株式会社
代理人 (1件)： 松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-191351
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037148
出願日： 1994年07月22日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】 細長いパターンを充分に大きな縮小率で投影露光することができ、したがって微細なパターニングを高精度に行うことができるようにする。【構成】 逐次移動式投影型露光装置により同一の単位パターン12を一枚のウェハ2上に位置をずらしながら次々と露光していくパターニング方法において、1つのフォトマスクに1つの単位パターンを複数の分割パターン12a,12bに分けて形成しておき、ウェハ上にて各分割パターンが隣接して連続する1つの単位パターンを構成するように露光することで1単位分のパターニングを行う。この時、各分割パターンの相互接続部分には隣接パターン間の位置ずれ測定用マークパターン13a,13bを含ませておき、現像後に前記パターンにより形成された測定用マーク15を観察して位置ずれを測定し、そのデータをその後のパターニング工程での逐次移動式投影型露光装置の位置制御の補正情報とする。

請求項（抜粋）：

逐次移動式投影型露光装置により同一の単位パターンを一枚のウェハ上に位置をずらしながら次々と露光していくパターニング方法において、1つのフォトマスクに1つの単位パターンを複数の分割パターンに分けて形成しておき、ウェハ上にて各分割パターンが隣接して連続する1つの単位パターンを構成するように位置をずらしながら複数回露光することで1単位分のパターニングを行うとともに、前記各分割パターンの相互接続部分には隣接パターン間の位置ずれ測定用マークを含ませておき、現像後に前記マークにより隣接パターン間の位置ずれを測定し、その位置ずれデータをその後のパターニング工程での逐次移動式投影型露光装置の位置制御の補正情報とすることを特徴とする逐次移動式投影型露光装置によるパターニング方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-168214   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-154519
  
• 特開平3-167817
  
• アライメントマーク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-346733   出願人：株式会社村田製作所