特許
J-GLOBAL ID：200903060478904655

表面に微細な凹凸構造を有する構造体の製造方法

発明者：
梅谷 誠

梅谷 誠 について

, 
田村 隆正

田村 隆正 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (11件)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-111892
公開番号（公開出願番号）：特開2007-283581
出願日： 2006年04月14日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：
【課題】微細な凹凸構造を有する構造体を高精細に安定して製造することができる方法を提供する。【解決手段】反射防止凹凸構造2に対応した形状の成形部12と成形部12よりも突出した突出部15とが一方の面11に形成された成形型10に対して、突出部15と接する一方、成形部12からは離間するように被成形物40を配置する。配置した被成形物40を軟化させた後、被成形物40を成形型10の成形部12でもってプレス成形することにより反射防止凹凸構造体1を得る。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
微細な凹凸構造が表面に形成された構造体の製造方法であって、 上記凹凸構造に対応した形状の成形部と該成形部よりも突出した突出部とが一方の面に形成された成形型に対して、上記突出部と接する一方、上記成形部からは離間するように被成形物を配置する工程と、 上記配置した被成形物を軟化させる工程と、 上記軟化した被成形物を上記成形型の上記成形部でもってプレス成形することにより上記構造体を得る工程と、 を備えた構造体の製造方法。
IPC (4件)：
B29C 59/02 ,  B29C 43/02 ,  B29C 43/36 ,  G02B 1/11
FI (4件)：
B29C59/02 B ,  B29C43/02 ,  B29C43/36 ,  G02B1/10 A
Fターム (40件)：
2K009AA12 ,  2K009CC14 ,  2K009DD15 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH75 ,  4F202AH76 ,  4F202AH78 ,  4F202AR13 ,  4F202CA09 ,  4F202CB01 ,  4F202CD24 ,  4F202CK18 ,  4F204AA21 ,  4F204AA28 ,  4F204AG01 ,  4F204AG05 ,  4F204AH73 ,  4F204AH74 ,  4F204AH75 ,  4F204FA01 ,  4F204FB01 ,  4F204FN01 ,  4F204FQ15 ,  4F209AA21 ,  4F209AA28 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH74 ,  4F209AH75 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PN06 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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