表面処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐野静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088524
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272505
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】より広い波長域を有する光に対して反射防止効果を持ち、且つ入射角度依存性の小さい反射防止構造とするために、アスペクト比の大きい錘形状を光学素子上に形成する表面処理方法を提供する。【解決手段】光学素子上にドットアレイ状に金属のマスクを形成した後、反応性イオンエッチングを施し、その際金属マスク径が徐々に減少し、ついには消失するまでの間、光学素子をエッチングする事により、光学素子上に錘形状を形成する方法を行う。

請求項（抜粋）：

被処理部材上にドットアレイ状にマスクを形成してエッチングする表面処理方法であって、前記マスクの径が徐々に減少して該マスクが消失するまでの間、前記被処理部材をエッチングする事により、該被処理部材上に錘形状を形成する事を特徴とする表面処理方法。

IPC (3件)：

G02B 1/11 , C03C 15/00 , C23F 4/00

FI (3件)：

C03C 15/00 D , C23F 4/00 C , G02B 1/10 A

Fターム (17件)：

2K009AA12 , 2K009BB02 , 2K009CC14 , 2K009DD12 , 4G059AA01 , 4G059AA20 , 4G059AB07 , 4G059AB11 , 4G059AC04 , 4G059BB01 , 4G059BB13 , 4K057DA05 , 4K057DA11 , 4K057DB11 , 4K057DD03 , 4K057DE06 , 4K057DN03

引用特許：

審査官引用 (9件)

微細加工装置および微細加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-231177 出願人：株式会社リコー
微細な表面形状を持つ構造物およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-232558 出願人：リコー光学株式会社
特開昭61-240452

全件表示

前のページに戻る