特許

J-GLOBAL ID：200903060505988688

新規有機化合物

発明者： 城田 靖彦 ,  景山 弘 ,  門田 敏明
出願人/特許権者： 財団法人大阪産業振興機構
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-284316
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183227
出願日： 2002年09月27日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【課題】 高感度・高解像度パターンを作製可能なレジスト材料に使用できる新規有機化合物を提供する。【解決手段】 本発明の化合物は、例えば下記式で表されるように、酸解離性官能基を有する有機化合物である。本発明の有機化合物は、高分子化合物に比べて分子サイズが極めて小さく(数百から数千程度)、さらに化学増幅を利用することにより、高感度・高解像度のパターン形成が可能である。本発明の有機化合物および酸発生剤を溶媒に溶かし、シリコン基板等の上に塗布することにより、アモルファス薄膜によるレジスト材料を形成し、レジスト基板とすることができる。このレジスト基板に光、電子線または放射線を照射して描画し、アルカリ現像液を用いて現像することにより、高感度・高解像度のパターンを形成することができる。【化4】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される有機化合物。【化1】ただし、式中、A1〜A12は任意の置換基であるが、それらの中で少なくとも一つは存在し、そして、A1〜A12のうち少なくとも一つは酸解離性官能基である。

IPC (4件)：

C07C 69/96 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C07C 69/96 Z ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE10 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006BJ50