特許
J-GLOBAL ID:200903060571313136

液処理装置、および液処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-242190
公開番号(公開出願番号):特開2003-055797
出願日: 2001年08月09日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 電気的導通と封止それぞれに適した圧力で、電極と封止手段を被処理体に対して押圧できる液処理装置を提供する。【解決手段】 処理液槽が互いに脱着可能に接続する処理液槽側部と処理液槽底部から構成され、被処理体は処理液槽底部上に支持される。被処理体封止手段と、第1の電極が処理液槽側部に設けられる。電極押圧手段による第1の電極の押圧が処理液槽側部と前記処理液槽底部との脱着と独立して行われることから、被処理体の封止と第1の電極による導通のそれぞれに必要な押圧を適切に制御することが容易になる。
請求項(抜粋):
被処理体を電気化学的に処理する処理液を蓄積するための処理液槽の側部を構成する処理液槽側部と、前記処理液槽側部と脱着可能に接続し、かつ前記処理液槽の底部を構成する処理液槽底部と、前記処理液を前記処理液槽内に導入する処理液導入手段と、前記処理液槽底部上に設けられ、かつ前記被処理体の少なくとも一部が前記処理液槽内に露出するように該被処理体を支持する被処理体支持部と、前記処理液槽側部に設けられ、かつ前記被処理体を封止してその周縁近傍を前記処理液から保護する被処理体封止手段と、前記処理液槽側部に設けられ、かつ前記被処理体と電気的に接続するための第1の電極と、前記処理液槽側部と前記処理液槽底部との脱着と独立して、前記第1の電極を前記被処理体に対して押圧する電極押圧手段と、前記処理液槽底部と対向して設けられた光源と、前記処理液槽底部と前記光源との間に設けられた第2の電極とを具備することを特徴とする液処理装置。
IPC (3件):
C25D 17/00 ,  C25D 21/00 ,  H01L 21/02
FI (3件):
C25D 17/00 A ,  C25D 21/00 A ,  H01L 21/02 Z
引用特許:
審査官引用 (1件)

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