特許
J-GLOBAL ID：200903060642985815
パーティクルカウント方法及びパーティクルカウンタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蔵合 正博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400001
公開番号（公開出願番号）：特開2003-194700
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 大気圧から減圧雰囲気を経て低真空までの動作圧力範囲で、エアロゾル中の所定の粒径範囲のパーティクルをカウントし、粒径分布を算出し得るパーティクルカウンタを提供すること。【解決手段】 本発明のパーティクルカウンタは、計測に光散乱を用いず、計測対象のエアロゾルに内在するパーティクルに対し荷電を行った後、前記エアロゾルを層流状の非荷電性シースガス流に混合させた後、静電界を印加することで、各々の荷電パーティクルに、粒径に依存した軌道をとらせ、特定の軌道を描くパーティクル数をカウントする手段をとる。これにより、気相プロセス装置内に内在する特に50nm以下のパーティクルを迅速・簡便にその場計測した上、粒径分布を算出することが可能なパーティクルカウンタを構成することができることとなる。
請求項（抜粋）：
気相中で物理的あるいは化学的な反応を行うプロセス装置に接続され、前記プロセス装置内のプロセスガスをエアロゾルとして取り込み、内在するパーティクルに対し荷電を行った後、前記エアロゾルを層流状の非荷電性シースガス流に混合させた後、静電界を印加することで、各々の内在パーティクルに、粒径に依存した軌道をとらせ、特定の軌道のパーティクルを抽出し、その数量を計測することで、前記プロセス装置内に浮遊するパーティクルの粒径分布を算出することを特徴とするパーティクルカウント方法。
FI (2件)：
G01N 15/02 F
, G01N 15/02 D
