特許

J-GLOBAL ID：200903060681465780

被処理体の導入ポート機構及びこれを用いた処理システム

発明者： 竹内 靖
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-173274
公開番号（公開出願番号）：特開2004-022674
出願日： 2002年06月13日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】収納容器体内の雰囲気を、内部に収納されている被処理体に悪影響を与えることなく迅速に、且つ円滑に不活性ガスの置換を行なうことが可能な被処理体の導入ポート機構を提供する。【解決手段】複数枚の被処理体Wを収容した収納容器体2を載置し、収納容器体の開閉蓋12を外して収納容器体内の被処理体を開口ゲート62を介して不活性ガス雰囲気になされた被処理体搬送エリア46内へ取り込むための被処理体の導入ポート機構において、載置台と、開口ゲートを開閉可能に閉じる開閉ドアと、収納容器体の開閉蓋を開閉する蓋開閉機構70と、不活性ガスや低露点乾燥空気を噴射するガス噴射手段84と、ガス噴射手段から噴射された不活性ガスや低露点乾燥空気を一旦当てて流速を落とした後に開放されている収納容器体内へ流すための干渉部材106とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

実質的に密閉され且つ複数枚の被処理体を収容した収納容器体を載置し、前記収納容器体の開閉蓋を外して前記収納容器体内の被処理体を開口ゲートを介して不活性ガス雰囲気、或いは低露点乾燥空気の雰囲気になされた被処理体搬送エリア内へ取り込むための被処理体の導入ポート機構において、 前記収納容器体を載置する載置台と、 前記開口ゲートを開閉可能に閉じる開閉ドアと、 前記収納容器体の開閉蓋を開閉する蓋開閉機構と、 前記開口ゲートの近防に設けられて不活性ガス、或いは低露点乾燥空気を噴射するガス噴射手段と、 前記ガス噴射手段から噴射された不活性ガスを一旦当てて流速を落とした後に前記開放されている収納容器体内へ流すための干渉部材とを備えたことを特徴とする被処理体の導入ポート機構。

IPC (4件)：

H01L21/68 ,  B65G49/00 ,  B65G49/07 ,  H01L21/205

FI (5件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/68 T ,  B65G49/00 A ,  B65G49/07 L ,  H01L21/205

Fターム (26件)：

5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA20 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031KA20 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02 ,  5F031NA03 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031PA18 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB08 ,  5F045EB12 ,  5F045EN01 ,  5F045EN05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094006   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 被処理体の収納装置及び搬出入ステージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-122862   出願人：東京エレクトロン株式会社