特許
J-GLOBAL ID：200903060747787822
感光性組成物とこれを用いた微細パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-314009
公開番号（公開出願番号）：特開平8-146599
出願日： 1994年11月24日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：
【要約】【目的】 シリル化法による微細パターンの形成を可能にした感光性組成物とそれを用いた微細パターン形成方法を得る。【構成】 感光樹脂等にシリル化を促進する化合物として、分子内に2つ以上のヒドロキシ基を有する化合物、或いは露光により塩基を発生する光塩基発生剤を含む。露光により感光性樹脂における露光部或いは未露光部のシリル化が促進され、酸素フラズマによるエッチング耐性が高められ、パターンのコントラストが明瞭になり、かつ微細パターンの形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
感光部或いは未感光部をシリル化して耐エッチング性を高める感光性樹脂等の感光性組成物であって、シリル化を促進する化合物として、分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物を備えることを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/075 501
, G03F 7/38 512
, H01L 21/027
