特許
J-GLOBAL ID：200903060777500501
光導波路デバイスの製造方法
出願人/特許権者：
日本碍子株式会社
日本碍子株式会社 について
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-076612
公開番号（公開出願番号）：特開平9-269430
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：
【要約】【課題】リッジ型光導波路の生産性を向上させ、その光学特性の安定性と形状の安定性とを向上させ、光導波路の表面の加工変質層を防止し、基板の主面に対するリッジ型光導波路の側面の角度を制御すること。【解決手段】基板1と、基板1の主面1a上に突出するリッジ型光導波路3とを備えている光導波路デバイスを製造する。アブレーション加工法によってリッジ型光導波路3を形成する。アブレーション加工の光源5として、波長350nm以下の光を用いることが好ましく、波長150〜300nmの光を用いることが更に好ましく、基板の材質は酸化物単結晶が特に好ましい。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板の主面上に突出するリッジ型光導波路とを備えている光導波路デバイスを製造する方法であって、アブレーション加工法によって前記リッジ型光導波路を形成することを特徴とする、光導波路デバイスの製造方法。
IPC (4件)：
FI (5件)：
引用特許：
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