特許
J-GLOBAL ID:200903060792922080
光フィルタ付き光学装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-315420
公開番号(公開出願番号):特開2006-128433
出願日: 2004年10月29日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】 光電変換部または光変調部の光入射側又は光出射側に光フィルタを備えた光学装置であって、単位セルが微小化しても形状悪化とそれに起因する分光特性の悪化が生じにくく、生産性や歩留まりよく製造できる光フィルタを備えた光学装置及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 CCD固体撮像素子20では、シリコン基板1にフォトセンサ部3や、信号電荷の垂直転送部4を形成し、その上にゲート絶縁膜2を介して第1ゲート電極6などを形成し、光電変換部を形成する。その光入射側に、基板1に垂直に立ち上がるように、単位セル領域に対応してカラーフィルタ層15を互いに分離する区画体13を形成する。区画体13によって囲まれた受光部領域14に、染料含有フォトレジストのリフローによって画素カラーフィルタ層15を形成する。或いは、染料を含有したネガ型化学増幅型フォトレジストを用いて、画素カラーフィルタ層15を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光電変換部又は光変調部の光入射側又は光出射側に光フィルタを備えた光学装置であって、前記光フィルタが、
前記光電変換部又は光変調部の光入射側又は光出射側の単位セル領域に対応したフィ ルタ部を互いに分離する区画体と、
前記区画体で囲まれた領域内に配され、リフローによって前記区画体に密着している フィルタ材からなる前記フィルタ部と
を有する、光フィルタ付き光学装置。
IPC (3件):
H01L 27/14
, G02B 5/20
, G02F 1/133
FI (3件):
H01L27/14 D
, G02B5/20 101
, G02F1/1335 500
Fターム (33件):
2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA47
, 2H048BA48
, 2H048BB02
, 2H048BB46
, 2H091FA02Y
, 2H091FA26X
, 2H091FA26Z
, 2H091FA34X
, 2H091FA34Y
, 2H091FA34Z
, 2H091FC26
, 2H091LA30
, 4M118AA05
, 4M118AA10
, 4M118AB01
, 4M118AB10
, 4M118BA13
, 4M118BA14
, 4M118CA04
, 4M118FA06
, 4M118FA13
, 4M118GB03
, 4M118GB08
, 4M118GB11
, 4M118GC08
, 4M118GC09
, 4M118GC14
, 4M118GC17
, 4M118GC20
, 4M118GD04
, 4M118GD07
引用特許:
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