特許

J-GLOBAL ID：200903060805625145

フォトプロッター

発明者： 深沢 俊夫
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-281609
公開番号（公開出願番号）：特開2006-100353
出願日： 2004年09月28日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：

【課題】 コンパクトなフォトプロッターでパターン描画の高精度化、高速化を容易にする。【解決手段】 被描画基板表面に露光ビームでパターンを描画するフォトプロッターであって、パターンの描画データに基づき露光ビームのオン・オフ及び光強度を可変する固体レーザ素子からなる光源部11と、光源部11から射出した露光ビームの光強度分布を均一化させる光学整形部12と、光学整形部12を通った露光ビームを所定の方向に走査するピエゾアクチュエータ付光学ミラー13を含むビーム走査手段と、を備えているフォトプロッター。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被描画基板表面に露光ビームでパターンを描画するフォトプロッターであって、前記パターンの描画データに基づき露光ビームのオン・オフ及び光強度を可変する固体レーザ素子からなる光源部と、前記光源部から射出した露光ビームの光強度を均一化させる光学整形部と、前記光学整形部を通った露光ビームを所定の方向に走査するピエゾアクチュエータ付光学ミラーを含むビーム走査手段と、を備えたことを特徴とするフォトプロッター。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 26/10 ,  G03F 7/20 ,  B41J 2/44

FI (4件)：

H01L21/30 529 ,  G02B26/10 104Z ,  G03F7/20 505 ,  B41J3/00 D

Fターム (19件)：

2C362AA03 ,  2C362AA26 ,  2C362AA40 ,  2C362AA43 ,  2C362BA17 ,  2C362BA27 ,  2H045AB62 ,  2H045AB81 ,  2H045BA02 ,  2H045DA31 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA20 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CA05 ,  5F046CB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 改良形レーザパターン発生装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-511192   出願人：イーテック・システムズ・インコーポレーテッド