特許
J-GLOBAL ID:200903060810201248

被膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 和気 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-134651
公開番号(公開出願番号):特開2008-285743
出願日: 2007年05月21日
公開日(公表日): 2008年11月27日
要約:
【課題】被膜形成装置を長時間運転してもエアロゾル配管内部、エアロゾル吐出ノズル廻りでの微粒子の堆積の発生が抑制され、長時間にわたり安定して緻密で均一な被膜を形成可能な被膜形成装置を提供する。【解決手段】微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、真空チャンバー5内でエアロゾル吐出ノズル2から基材上に吐出し衝突させて成膜を行なう被膜形成装置1であって、エアロゾル吐出ノズル2は、エアロゾルを搬送するエアロゾル配管3に接続されてなり、該エアロゾル配管3およびエアロゾル吐出ノズル2の少なくとも一方に振動を与える手段2a、3aを設け、エアロゾルの吐出時において振動を与える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、真空チャンバー内でエアロゾル吐出ノズルから基材上に吐出し衝突させて成膜を行なう被膜形成装置であって、 前記エアロゾル吐出ノズルは、前記エアロゾルを搬送するエアロゾル配管に接続されてなり、前記エアロゾル配管および前記エアロゾル吐出ノズルの少なくとも一方に振動を与える手段を設けたことを特徴とする被膜形成装置。
IPC (2件):
C23C 24/04 ,  B05B 3/14
FI (2件):
C23C24/04 ,  B05B3/14
Fターム (8件):
4F033PA14 ,  4F033PB32 ,  4K044AA03 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BB11
引用特許:
出願人引用 (2件)

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