特許

J-GLOBAL ID：200903060839622048

表面処理装置、光学素子成形用型及び光学素子

発明者： 五十川 征史
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (6件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223213
公開番号（公開出願番号）：特開2007-297699
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】発生するプラズマを広範囲に低濃度に分布した状態で輸送して被処理体の均一な処理を行うことができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。【解決手段】表面処理装置1は、真空チャンバ2と、筒状の絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、アーク放電によって生じるプラズマ8を放出する蒸着源10と、光学素子成形用型母材11を載置する支持台12と、磁石13を有して、蒸着源10から放出されるプラズマ8の進行方向が、支持台12の近傍において中心軸線C方向となるように偏向させる偏向部15とを備えている。磁石13は周方向断面が略矩形でリング状に一体に形成された多面体とされている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、該ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、前記アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマを前記ターゲットの先端方向に放出する蒸着源と、 前記ターゲットイオンが到達する被処理体を載置する表面の法線が、前記蒸着源近傍における前記プラズマの放出方向に対して傾いて配された支持台と、 磁石又は電磁石を有して、前記蒸着源から放出された前記プラズマの進行方向が、前記支持台近傍にて該支持台表面の略法線方向となるように偏向させる偏向部とを備え、 前記磁石又は前記電磁石が多面体とされ、前記被処理体の外周縁部よりも径方向外方となる領域に相当する位置に、多面体の角部が配されるように形成されていることを特徴とする表面処理装置。

IPC (2件)：

C23C 14/32 ,  H05H 1/50

FI (2件)：

C23C14/32 B ,  H05H1/50

Fターム (7件)：

4K029BA02 ,  4K029BA22 ,  4K029BB02 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06 ,  4K029JA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-014352   出願人：株式会社アルバック