特許
J-GLOBAL ID：200903060871487802
ガスハイドレートの製造方法および製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-247625
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055677
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】【課題】 輸送や貯蔵の際の利便性に優れた高濃度のガスハイドレートを製造する方法およびそのための装置を提供すること。【解決手段】 所定圧力および所定温度の下で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造装置100は、水に原料ガスを気泡として導入する多孔板13を備えた第1の生成槽11と、第1の生成槽11における多孔板13よりも径の大きな気泡を導入する多孔板23を備えた第2の生成槽21と、第1の生成槽11で生成した細粒ガスハイドレート55および第2の生成槽21で生成した粗粒ガスハイドレート56を混合する混合槽31とを備えており、粒径の異なるガスハイドレートの混合物57を製造する。
請求項（抜粋）：
所定圧力および所定温度の下、生成槽内で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハイドレートの製造方法であって、前記生成槽内の水に原料ガスを気泡として導入するとともに、該気泡を異なる2つ以上の気泡径に制御することにより、異なる2つ以上の粒径のガスハイドレートを生成させて、該異なる2つ以上の粒径のガスハイドレートを均一に混合することを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
IPC (7件)：
C10L 3/06
, C01B 31/20
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
C01B 31/20 Z
, C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4G046JA04
, 4G046JB03
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC93
, 4H006BD81
, 4H006BE60
