特許
J-GLOBAL ID:200903060902924556
被膜付基材および該被膜形成用塗布液
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-264048
公開番号(公開出願番号):特開2007-076055
出願日: 2005年09月12日
公開日(公表日): 2007年03月29日
要約:
【課題】 防弦性と反射防止性能に優れた被膜付基材を提供する。【解決手段】 基材上に、球状粒子と被膜(1)形成用マトリックスとからなる凹凸を有する被膜(1)が形成された被膜付基材であって、該被膜(1)の凸部の高さ(T1)と該被膜(1)の凹部の高さ(T2)との差が30〜1500nmの範囲にある被膜付基材。前記球状粒子の平均粒子径(DP)が0.1〜3μmの範囲にある。前記被膜(1)中の球状粒子の含有量が5〜70重量%の範囲にある。前記被膜(1)の平均膜厚が1〜10μmの範囲にある。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材上に、球状粒子と被膜(1)形成用マトリックスとからなる凹凸を有する被膜(1)が形成された被膜付基材であって、該被膜(1)の凸部の高さ(T1)と該被膜(1)の
凹部の高さ(T2)との差が30〜1500nmの範囲にあることを特徴とする被膜付基
材。
IPC (3件):
B32B 3/30
, C09D 201/00
, C09D 5/00
FI (3件):
B32B3/30
, C09D201/00
, C09D5/00 Z
Fターム (48件):
4F100AA20
, 4F100AJ06
, 4F100AK01A
, 4F100AK25
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100DD01A
, 4F100DD07A
, 4F100DE01A
, 4F100GB41
, 4F100JK06
, 4F100JK10
, 4F100JN06
, 4F100JN26
, 4F100YY00A
, 4J038CC021
, 4J038CC022
, 4J038CD021
, 4J038CD091
, 4J038CE071
, 4J038CF021
, 4J038CG131
, 4J038CG132
, 4J038CH001
, 4J038CH002
, 4J038DA041
, 4J038DA221
, 4J038DB001
, 4J038DD001
, 4J038DG001
, 4J038DG321
, 4J038DG322
, 4J038DL001
, 4J038HA166
, 4J038HA446
, 4J038JA17
, 4J038JA25
, 4J038JA33
, 4J038JA55
, 4J038JC31
, 4J038JC32
, 4J038KA06
, 4J038KA20
, 4J038MA10
, 4J038NA17
, 4J038NA19
, 4J038PB08
, 4J038PB09
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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