特許
J-GLOBAL ID:200903060928325073
MALDI質量分析のためのイオン源及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-537997
公開番号(公開出願番号):特表2007-514274
出願日: 2004年09月24日
公開日(公表日): 2007年05月31日
要約:
MALDIイオン源、イオン形成の方法及び質量分析装置システムを提供する。さまざまな実施形態において、サンプル面のサンプルに、取付け面の法線から10度以内の角度でレーザー・エネルギー・パルスを照射するよう構成されたMALDIイオン源、及び取付け面の法線から5度以内の方向にサンプルイオンを抽出するよう構成された第一イオン光学システムを提供する。さまざまな実施形態において、ほぼ同軸のサンプル照射及びイオン抽出を具えるMALDIイオン源を提供する。さまざまな実施形態において、MALDIによってサンプルイオンを生成し、加速電界を用いてサンプルイオンを抽出して、加速電界からの出口におけるサンプルイオン軌道の角度が、イオンビームのほぼ中心部において実質上サンプルイオンの質量に左右されないようにイオンビームを形成する方法を提供する。
請求項(抜粋):
マトリクス支援レーザー脱離イオン化法のためのイオン源であって、サンプル面を持つサンプル・ホルダーと、該サンプル面上のサンプルに、エネルギー・パルスを、該エネルギー・パルスが該サンプル面の法線から10度以内の角度で該サンプル面上のサンプルに当たるようにして、照射するよう構成された光学システムと、該サンプル表面に対しほぼ法線の第一方向にサンプルイオンを抽出するよう構成された第一イオン光学システムとを含むイオン源。
IPC (4件):
H01J 49/16
, G01N 27/62
, H01J 49/26
, H01J 49/22
FI (5件):
H01J49/16
, G01N27/62
, G01N27/62 G
, H01J49/26
, H01J49/22
Fターム (13件):
2G041CA01
, 2G041CA02
, 2G041DA04
, 2G041FA12
, 2G041GA02
, 2G041GA03
, 2G041GA06
, 2G041GA07
, 2G041JA08
, 5C038GG07
, 5C038GH02
, 5C038GH11
, 5C038HH02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-089160
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特許第6444980号
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特開昭62-232847
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