特許

J-GLOBAL ID：200903060985898691

洗浄装置及びその方法

発明者： 橋本 博士
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259107
公開番号（公開出願番号）：特開平8-089910
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 例えばガラス基板に対して塗布・現像する装置に組み込まれる洗浄装置において、占有面積を小さくすること、及び洗浄手段の構成を簡素化すること【構成】 ガラス基板Gの両側縁を保持する保持アーム21、21と、ガラス基板Gの両面側に配置され、X方向に移動可能でかつ互いに接離自在な洗浄部3a、3bを設ける。洗浄部3a、3bは洗浄ブラシ31及び洗浄液供給管32を備え、洗浄ブラシ31が回転しながらX方向に移動してガラス基板Gの両面を洗浄する。他の例としては、ガラス基板Gを保持部材に保持させ、ガラス基板Gの下面にて洗浄ブラシを固定させ、保持部材を回転させて前記下面を洗浄する。更に他の例としては、ガラス基板Gの一面側に洗浄部材を設け、一面を洗浄した後反転させて他面を洗浄する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を洗浄する洗浄装置において、被処理基板の周縁部を保持する保持手段と、この保持手段に保持された被処理基板の少なくとも一面を洗浄しながら被処理基板の一縁から他縁に向かって移動する洗浄部を有する洗浄手段と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (5件)：

B08B 3/02 ,  B08B 11/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 361

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリコン・ウエハの洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-051127   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-213826
  
• 特開平3-085791