特許

J-GLOBAL ID：200903060997628835

フェノール系化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの製造方法

発明者： 釜淵 明 ,  市川 幸司 ,  尾崎 晴喜
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-241463
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087243
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】 フェノール性水酸基を有する化合物とキノンジアジドスルホニルハライドとの縮合反応において、キノンジアジドスルホニルハライドのロスを抑え、集積回路製作用として希望組成のキノンジアジドスルホン酸エステルが製造できる方法を提供する。【解決手段】 フェノール性水酸基を有する化合物とキノンジアジドスルホニルハライドとを、水分量が6重量%未満の系内で縮合反応させて、フェノール系化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを製造する。この反応は、500nm以下の光の透過率が8%以下の環境で行うのが好ましい。【効果】 縮合反応が、キノンジアジドスルホニルハライドの分解よりも優先されるので、希望組成のキノンジアジドスルホン酸エステルが得られる。

請求項（抜粋）：

水分量が6重量%以下の系内で、フェノール性水酸基を有する化合物とキノンジアジドスルホニルハライドとを縮合反応させることを特徴とする、フェノール系化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの製造方法。

IPC (2件)：

C07C309/76 ,  C07C303/28

FI (2件)：

C07C309/76 ,  C07C303/28

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346400   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平2-019846
  
• 特開平2-152955
  
• 特開平2-019846
  
• 特開平2-152955