特許

J-GLOBAL ID：200903061138451652

レーザリペア装置とフォトマスクの修正方法

発明者： 上田 淳
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 畑 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-156542
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347385
出願日： 1999年06月03日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 精度良い修正が可能になり、しかも、修正部エッジの盛り上がりやデブリス等の発生を低減させるフォトマスクの修正方法を提供する。【解決手段】 欠陥部分12に照射するレーザ光の照射位置を第1の位置21に設定して第1のレーザパワーで欠陥部分12にレーザ光を照射する第1の工程と、第1の位置21に対してずらした第2の位置22に、第1のレーザパワーよりも弱い第2のレーザパワーのレーザ光を照射する第2の工程とで、マスクパターンの欠陥部分12を修正することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ光を用いてマスクパターンの欠陥部分を修正するマスクパターンの修正方法であって、前記欠陥部分に照射するレーザ光の照射位置を第1の位置に設定して第1のレーザパワーで前記欠陥部分にレーザ光を照射する第1の工程と、前記第1の位置に対してずらした第2の位置に、前記第1のレーザパワーよりも弱い第2のレーザパワーのレーザ光を照射する第2の工程とで、前記マスクパターンの欠陥部分を修正することを特徴とするフォトマスクの修正方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 1/08 V ,  B23K 26/00 C ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/00 G ,  B23K 26/06 Z ,  H01L 21/30 502 W

Fターム (10件)：

2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB34 ,  2H095BD32 ,  2H095BD34 ,  4E068AC00 ,  4E068CA01 ,  4E068CD10 ,  4E068CD13 ,  4E068DA00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-219751
  
• フォトマスク修正装置およびフォトマスク修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-083408   出願人：日本電気株式会社
• 特開昭57-118246