特許
J-GLOBAL ID：200903061141055725

樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法及び液晶素子

発明者：
田中 光利

田中 光利 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-101456
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281692
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 樹脂層付アクティブマトリクス基板への樹脂層形成時の不良率を低減する。【解決手段】 アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、該感光性樹脂層の光学濃度(OD)が0.5〜4であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が16〜300μmであることを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。【数1】
請求項（抜粋）：
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像し該樹脂層にコンタクト部を形成する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、該感光性樹脂層の光学濃度(OD)が0.5〜4であり、かつ該パターン露光時の露光マスクと該感光性樹脂層の距離が16〜300μmであることを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。
IPC (7件)：
G02F 1/136 ,  G02F 1/1333 505 ,  G03F 7/26 501 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (7件)：
G02F 1/136 ,  G02F 1/1333 505 ,  G03F 7/26 501 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  H01L 29/78 616 J ,  H01L 29/78 619 A
Fターム (50件)：
2H090HA04 ,  2H090HA05 ,  2H090HA08 ,  2H090HC01 ,  2H090HC12 ,  2H090JD01 ,  2H090LA04 ,  2H090LA15 ,  2H092JA46 ,  2H092JB56 ,  2H092KB25 ,  2H092MA15 ,  2H092MA18 ,  2H092NA15 ,  2H092NA29 ,  2H092PA08 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA30 ,  2H096GA08 ,  2H096LA17 ,  5C094AA05 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094FB01 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10 ,  5C094JA08 ,  5C094JA11 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110DD01 ,  5F110NN02 ,  5G435AA03 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH01 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM