特許

J-GLOBAL ID：200903061154801167

インプリント・リソグラフィ・システム

発明者： スリニーヴァッサン,シトルガタ・ヴイ ,  シューメイカー,フィリップ・ディ ,  マックマッキン,イアン・エム
出願人/特許権者： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-504286
公開番号（公開出願番号）：特表2009-532908
出願日： 2007年04月03日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：

本発明は、レベル0(インプリント又はフォトリソグラフィ又は電子ビーム等によってパターニングされる)及びレベル1(インプリントによってパターニングされる)に対するパターニングされたフィールドの形状の選択を対象とし、その結果、一緒に碁盤目状にされたときこれらの形状が、周辺凹部によって生じるオープン領域を解消する。

請求項（抜粋）：

レベル0とレベル1のレイアウトが、アクティブ・インプリント・フィールドの間の境界にオープン領域がないように、互いに碁盤目状をした形状を有するインプリント・リソグラフィ・システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B

Fターム (15件)：

4F209AC05 ,  4F209AD04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA26 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-154089   出願人：株式会社日立製作所
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-127481   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (2件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-154089   出願人：株式会社日立製作所
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-127481   出願人：株式会社ニコン