特許
J-GLOBAL ID：200903061166718923
シワ隠し用化粧料
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212545
公開番号（公開出願番号）：特開平8-073317
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【構成】 粒径30μm以下の粒子が90重量%以上存在し、且つ平均粒径が3〜20μm以下である架橋球状ポリスチレンに平均の厚みが0.1μm〜2μm、平均の大きさが1〜30μmで、アスペクト比(平均直径÷平均厚み)が5〜40で、酸化珪素を95.0%以上含有し、且つBET比表面積が30m2 /g〜0.1m2 /gである薄片状酸化珪素を含むことを特徴とするシワ隠し用化粧料。【効果】 シワ、毛穴、キメの荒さ等の皮膚の凸凹があっても明度差を生じにくく、皮膚の形態トラブルを隠蔽する優れた効果を有する。
請求項（抜粋）：
粒径30μm以下の粒子が90重量%以上存在し、且つ平均粒径が3〜20μm以下である架橋球状ポリスチレンを含有してなるシワ隠し用化粧料。
IPC (2件)：
引用特許：
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