特許
J-GLOBAL ID：200903061294266024
エンボス加工方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大川 晃
, 小野寺 洋二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-511041
公開番号（公開出願番号）：特表2005-529006
出願日： 2003年06月06日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
互いに独立に彫刻された一致しないエンボスパターンを有し、エンボスパターンの隣接して相互係合する突出部と窪みの間に拡大した側壁間げきを有する、少なくとも一対のエンボス加工ロールを含むエンボス加工方法、及びその方法で作成された材料。側壁間げきは、約0.050mm〜約1.27mmの範囲とすることができる。突出部の幅は、約0.050mmより大きくすることができる。少なくとも1つのエンボス加工ロールの周辺表面は、金属、プラスチック、セラミック、又はゴムを含むことができる。上の方法で作成された、食物製品用の包装材料として使用可能なエンボス加工されたウェブ材料も、開示されている。
請求項（抜粋）：
ウェブ材料をエンボス加工するための装置において、
(a)第一のエンボス加工ロールの周辺表面の少なくとも一部上に彫刻された第一のエンボスパターンを有する前記第一のエンボス加工ロールと、前記第一のエンボスパターンが突出部及び窪みを含み、
(b)第二のエンボス加工ロールの周辺表面の少なくとも一部上に彫刻された第二のエンボスパターンを有する前記第二のエンボス加工ロールと、前記第二のエンボスパターンが突出部及び窪みを含み、を備え、
ここで、前記第一のエンボス加工ロールの前記第一のエンボスパターンの前記突出部が、係合の所定の半径深さで、好ましくは0.127mm〜0.254mmの深さで、前記第二のエンボス加工ロールの前記第二のエンボスパターンの対応する窪みと相互係合し、その結果、前記相互係合した突出部と窪みの少なくとも99.7%が、0.050mm〜1.27mm、好ましくは0.050mm〜0.25mm、の範囲の側壁間げきにより互いに隔てられていることを特徴とする装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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