特許
J-GLOBAL ID：200903061407194700
磁気デイスク及びその製造方法並びに磁気デイスク装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275193
公開番号（公開出願番号）：特開平5-114127
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】高密度記録においても浮上特性、CSS及びヘッド粘着などの摺動特性に対して充分に満足し得る表面形状を有する磁気ディスク装置を実現することにある。【構成】磁気ディスク装置のヘッド浮上特性やヘッド粘着、CSS特性などの磁気ディスク特性に、磁気ヘッドの摺動面と接する磁気ディスク接触面の表面形状が非常に重要な役割を果たし、この表面形状評価項目として3次元的負荷比率(0.5〜10%)と表面凹凸を表す断面曲線の対称性Rsk(0.5〜2)とが必須用件であることを見い出した。図3はその例を示したもので、例えばNi-Pめっきされたアルミニウム合金円板上の表面形状を3次元的負荷曲線の負荷比率が0.5〜10%、その表面の断面形状の対称性Rskが0.5〜2となるように加工し、この上にクロム中間膜、Co-Cr系磁性膜、カ-ボン保護膜、潤滑剤を形成した。これにより上記目的を十分に達成し得る磁気ディスク装置を実現することができた。
請求項（抜粋）：
磁気ヘッドの摺動面と接する磁気ディスク接触面の表面形状を3次元的負荷曲線の負荷比率BR5と断面形状の対称性Rskとの評価項目で表わしたとき、負荷比率が0.5〜10%であり、対称性Rskが0.5〜2.0を満たす表面形状を有して成る磁気ディスク。
IPC (5件)：
G11B 5/66
, G11B 5/72
, G11B 5/82
, G11B 5/84
, G11B 21/21
